SICSÚ, Abraham Benzaquen; ROSENTHAL, David. Apresentação: Giovanni Dosi - Technological Paradigms and Technological Trajectories. Revista Brasileira de Inovação, Campinas, SP, v. 5, n. 1, p. 9–32, 2009. DOI: 10.20396/rbi.v5i1.8648922. Disponível em: https://periodicos.sbu.unicamp.br/ojs/index.php/rbi/article/view/8648922. Acesso em: 1 jul. 2024.